Presque tous les éléments présents dans un échantillon solide sont détectables et quantifiables de manière systématique : pour la plupart à l’échelle du ppb (partie par milliards).

Productivité élevée et faible coût d’analyse
Le système GD-MS Element GD Plus est conçu pour offrir une sensibilité et une précision exceptionnelles à un débit d’échantillons élevé, réduisant ainsi considérablement le coût de votre analyse.

• Source d’ions à flux rapide
• Conception de source conviviale : échange d’échantillons < 1 min
• Temps de pompage court : délai de traitement des échantillons < 10 min
• Débit d’échantillons élevé : jusqu’à 5 échantillons/h
• Préparation simplifiée des échantillons : pas besoin de nettoyer les échantillons de haute pureté à l’acide
• Analyse plus rapide des échantillons : pas besoin de mesurer les références d’étalonnage

Opérations courantes
Le système GD-MS Element GD Plus est conçu pour des opérations courantes et une cadence élevée.

• La plage dynamique linéaire couvrant plus de 12 ordres de grandeur permet l’analyse simultanée des éléments de matrice (%), des traces (ppm) et des ultra-traces (ppb)
• L’étalonnage croisé automatique entre les différents modes de détection garantit des résultats fiables
• Chambre à vide pour échantillons : élimine le risque de fuite entre l’échantillon et la cellule GD
• Détermination rapide des concentrations élémentaires en un seul balayage sans références d’étalonnage (en utilisant l’approche RSF standard)
• Précision optimale en un temps d’analyse court

Limites de détection exceptionnelles
Le système GD-MS Element GD Plus offre une cadence élevée sans compromis. Avec un rapport signal/bruit très élevé et des limites de détection très basses, le système GD-MS Element GD Plus est la solution idéale pour l’analyse élémentaire des matériaux ultrapurs.

• Source d’ions unique conçue pour une transmission élevée des ions, optimisant ainsi le signal analysé.
• Le rapport signal/bruit garanti produit des limites de détection inférieures au ppb
• L’option CNO facultative permet d’atteindre des limites de détection de niveaux inférieurs au ppm pour le CNO sans compromettre la cadence de votre analyse
• Réduction d’un facteur 10 des interférences polyatomiques par rapport aux sources GD statiques

Résultats fiables par résolution de masse élevée
La simplicité de l'ICP-MS de haute résolution permet d’obtenir les performances les plus avancées, sans compromettre le développement de méthodes simples et fiables.

• Mesures sans interférences pour des résultats analytiques incontestables
• Toute combinaison de paramètres de résolution peut être effectuée au cours d’une seule analyse
• La conception à fente fixe garantit une stabilité et une reproductibilité maximales
• Contribution minimale des signaux de matrice élevés sur les pics d’analyte voisins en raison de la lentille du filtre

Profilage de profondeur avec résolution nanométrique
Le profilage de profondeur est un outil important pour l’analyse élémentaire des revêtements et l’évaluation de la diffusion des éléments à travers les couches.

• Résolution de profondeur de quelques nanomètres jusqu’à des centaines de micromètres
• Détermination des concentrations de tous les éléments de niveaux inférieurs au ppm à 100 % sans étalonnage
• Diamètre d’anode flexible pour un profilage de profondeur avancé
• Les taux de projection peuvent être ajustés pour l’analyse en vrac ou le profilage de profondeur

Recommandés dans les domaines suivants :

• Aéronautique : superalliages de nickel, matériaux composites, profilage en profondeur des revêtements et couches de diffusion
• Micro-électronique : cuivre, poudre d’oxyde d’aluminium, cibles de projection
• Énergies renouvelables : blocs de silicium, plaquettes, cellules solaires
• Produits médicaux/pharmaceutiques/alimentaires : acier inoxydable, alliages