고체 시료에 존재하는 거의 모든 원소를 루틴하게 검출 및 정량할 수 있으며, ppb 수준까지 검출이 가능합니다.

높은 생산성과 낮은 분석 비용
Element GD Plus GD-MS는 높은 시료 처리량에서도 뛰어난 민감도와 정확도를 제공하고 분석 비용을 크게 절감하도록 설계되었습니다.

• 빠른 유속(Fast-flow) 이온 소스
• 사용자 친화적인 소스 디자인: 1분 미만의 시료 교환
• 짧은 펌핑 시간: 10분 미만의 시료 처리 시간
• 높은 시료 처리량: 시간당 최대 5개의 시료
• 시료 전처리 감소: 고순도 시료의 산 세척 불필요
• 더 빠른 시료 분석: 보정 표준물질 측정 불필요

루틴한 작동
Element GD Plus GD-MS는 코어에서 루틴한 작동과 높은 처리량을 핵심으로 설계되었습니다.

• 10의 12제곱 이상의 선형 동적 범위로 매트릭스 원소(%), 미량(ppm) 및 극미량(ppb)을 동시에 분석할 수 있습니다.
• 서로 다른 검출 모드 간의 자동 교차 보정을 통해 정밀한 결과를 보장합니다.
• 시료 진공 챔버: 시료와 GD 셀 간 누출 위험을 제거합니다.
• 보정 표준물질 없이 단일 스캔 내에서 원소 농도를 빠르게 측정합니다(표준 RSF 접근법 사용).
• 짧은 분석 시간 내에 최상의 정밀도 제공

뛰어난 검출 한계
Element GD Plus GD-MS는 성능 저하 없이 높은 처리량을 보장합니다. 신호 대 잡음비가 가장 높고 검출 한계가 가장 낮은 Element GD Plus GD-MS는 초고순도 재료의 원소 분석에 최적화된 장비입니다.

• 높은 이온 투과율을 위해 설계된 고유한 이온 소스로, 분석된 신호를 극대화합니다.
• 보장된 신호 대 잡음비로 ppb 미만의 검출 한계를 생성합니다.
• CNO 옵션은 분석 처리량 저하 없이 CNO에 대한 ppm 이하 수준의 검출 한계를 달성합니다.
• 정적 GD 소스와 비교하여 다원자 간섭 90% 감소

높은 질량 분해능으로 신뢰할 수 있는 결과
고분해능 ICP-MS의 단순성은 간단하고 신뢰할 수 있는 분석법 개발을 저해하지 않으면서 가장 발전된 성능을 제공합니다.

• 확실한 분석 결과를 위한 간섭 없는 측정
• 단일 분석 내에서 모든 분해능 설정 조합 가능
• 고정 슬릿 설계로 최대의 안정성과 재현성 보장
• 필터 렌즈로 인해 주변 분석물 피크에 대한 높은 매트릭스 신호의 간섭을 최소화함

나노미터 분해능의 뎁스(depth) 프로파일링
뎁스(depth) 프로파일링은 코팅의 원소 분석과 층간 성분 및 조성비의 변동 추이를 평가하는 중요한 기법입니다.

• 나노미터에서 수백 마이크로미터에 이르는 뎁스(depth) 분해능
• 보정할 필요 없이 ppm 미만에서 100%까지 모든 원소의 농도 측정
• 고급보다 향상된 뎁스(depth) 프로파일링을 위한 유연한 애노드 직경
• 대량 분석 또는 뎁스(depth) 프로파일링에 맞게 스퍼터(sputter) 속도 조정 가능

추천 응용 분야:

• 항공우주산업: 니켈 초합금, 복합 재료, 코팅 및 확산층(diffusion layers)의 뎁스(depth) 프로파일링
• 마이크로일렉트로닉스: 구리, 알루미나 분말, 스퍼터 타겟
• 재생 가능 에너지: 실리콘 블록, 웨이퍼, 태양광 전지
• 의료/제약/식품: 스테인리스 스틸, 합금