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デプスプロファイリング | MAGCIS Dual Mode Ion Source |
概要 | MAGCIS XPS 装置用デュアルビームイオン源 |
使用対象 (装置) | K-Alpha X 線光電子分光装置、ESCALAB 250Xi XPS マイクロプローブ、シータプローブ同時角度分解型 XPS システム |
Unit Size | Each |
製品番号(カタログ番号) | 仕様 | 容量 | 概要 | 価格(JPY) | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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IQLAADGAAFFAPFMBFP | Each | MAGCIS XPS 装置用デュアルビームイオン源 | 見積もりを依頼する | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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X 線光電子分光法 (XPS) では、個々の層を特性評価するために、イオン源を使用して多層構造をもった素材をエッチングします。この技術には、タッチスクリーンの完全な構造の評価、生物医学装置のプラズマ堆積コーティングの測定、OLED および太陽電池の解析など、多くの有用な用途があります。
長年にわたり、XPS ではアルゴンイオンスパッタリングを使用して、層状素材の深部にわたる化学的特性変化の評価や、無機表面のクリーニングを行ってきました。ただし、このイオン源は、ポリマーなどの素材の表面に損傷を与えます。最近では、こうした問題を解消するためにガスクラスターイオン源が開発され、以前は XPS デプスプロファイリングが適用できなかった素材の分析が可能になりました。
MAGCIS XPS 装置用デュアルビームイオン源は単原子モードとガスクラスターモードの両方で動作し、広範なサンプルタイプのデプスプロファイル分析が可能です。MAGCIS イオン源は、すべての Thermo Scientific XPS システムで使用される表面分析ソフトウェアである Thermo Scientific™ Avantage™ ソフトウェアから完全にコントロールされます。 ガスハンドリングおよびイオン源コントロールはユーザーが個別に操作する必要はなく、使用するモード (特定のエネルギーの“単原子”イオンビームまたは“クラスター”イオンビーム) を選択し、実験を実行するだけです。
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