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製品番号（カタログ番号）
IQLAADGACKFAQUMBJN
容量
Each
概要
Nexsa はオプションの追加分析機能を備えた完全統合 XPS システムです。
価格（JPY）
在庫と納期
***
| Sampling Area | 3600 mm2 |
| X線源のタイプ | モノクロメーター、マイクロフォーカス、低出力 Al Ka X 線源 |
| X-Ray Spot Size | 10～400 µm (5 µm ステップで調節可能) |
| 分析計タイプ | 128 チャネル検出器を備えた180° 二重収束型・半球型アナライザー |
| デプスプロファイリング | EX06 単原子イオン源または MAGCIS デュアルモードイオン源 |
| 概要 | Nexsa はオプションの追加分析機能を備えた完全統合 XPS システムです。 |
| オプションのアクセサリ | UPS、ISS、REELS、iXR ラマン分光装置、MAGCIS、角度分解 XPS 用試料ホルダー、仕事関数測定用試料ホルダー、サンプルトランスファーモジュール、グローブボックス接続用アダプター |
| 厚み（メートル法）最大、サンプル | 20 mm |
| 真空システム | 2 x 260 l.s-1 ターボ分子ポンプ、自動チタン製サブリメーションポンプおよびバッキングポンプ |
| Unit Size | Each |
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| 製品番号（カタログ番号） | 仕様 | 容量 | 概要 | 価格（JPY） | 在庫と納期 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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材料分析および開発
Nexsa 分光システムのもたらす柔軟性は、分析対象材料の可能性を最大限に引き出すことが可能です。複数の分析オプションの統合により、研究成果の品質を維持したまま、真の複合分析とハイスループットを可能にします。
パワフルな性能 (標準機能):
- 絶縁物分析
- 高性能分光
- デプスプロファイリング
- 複数技術の統合
- デプスプロファイリング機能を拡張するデュアルモードイオン源
- ARXPS 測定のためのチルトモジュール
- 装置のコントロール、データ処理およびレポートのための Avantage ソフトウェア
- 微小部分析
アップグレードオプション：お客様の分析のご要望に応じ、必要な機能を追加できます。各機能は統合され、完全に自動化されています。ボタンをタッチするだけで分析ができます。
- ISS: イオン散乱分光法は、イオンビームを表面で散乱させる手法です。
- UPS: 紫外光電子分光法は、紫外光を試料に照射することにより放出される光電子の運動エネルギーを計測する方法で、価電子領域での電子状態を決定するための分析法です。
- ラマン: スペクトルから化学構造を解析する分光技術
- REELS: 反射電子エネルギー損失分光法
SnapMap
高速マッピング機能 SnapMap により目的試料の形状を短時間で把握できます。SnapMap 画面では目的の測定領域を特定可能で、さらなるより詳細な分析の測定位置を決定するお手伝いをします。
1.X 線がサンプル上の微小領域に照射されます。
2.X 線照射領域から放出された光電子が光電子アナライザーにて計測されます。
3.ステージが動くたびにスペクトルが連続して取得されます。
4.データ取得中のステージの位置は記録され、その位置情報を使用して SnapMap が作成されます。
主な用途
- バッテリー
- 生体表面
- 触媒
- セラミック
- ガラスコーティング
- グラフェン
- 金属および金属酸化物
- ナノマテリアル
- OLED
- ポリマー
- 半導体
- 太陽電池
- 薄膜
図
ドキュメントおよびダウンロード
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よくあるご質問（FAQ）
引用および参考文献
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