固体サンプル中に存在するほとんどすべての元素を検出可能で、多くはppbレベルまで定量できます。

高い生産性と低い分析コスト
Element GD Plus GD-MSは、高いサンプルスループットで優れた感度と正確性を提供し、分析コストを大幅に削減できるよう設計されています。

• 高速フローのイオン源
• ユーザーフレンドリーなソース設計：1分未満でサンプル交換
• 短いポンピング時間：10分未満でデータ取得
• 高いサンプルスループット：最大5サンプル／時間
• サンプル調製の手間を軽減：高純度サンプルの酸洗浄は不要
• サンプル分析の高速化：キャリブレーション標準の測定は不要

ルーチンオペレーション
Element GD Plus GD-MSは、ルーチンオペレーションとハイスループットを主眼として設計されています。

• リニアダイナミックレンジは12桁を超え、マトリックス元素（%）、微量（ppm）、超微量（ppb）の同時分析が可能
• 異なる検出モード間での自動クロスキャリブレーションにより、確実な分析結果を保証
• サンプル真空チャンバー：サンプルセルとGDセルの間でのリークのリスクを排除
• キャリブレーション標準なしに単一スキャンで元素濃度を迅速に測定（標準RSF法を使用）
• 短い分析時間で最高レベルの正確性

卓越した検出限界
Element GD Plus GD-MSは、妥協のないハイスループットを実現します。非常に優れたSN比と検出下限を兼ね備えたElement GD Plus GD-MSは、超高純度元素分析の主要技術として位置付けられています。

• 高イオン透過率を重視して設計された独自のイオン源により、分析信号が最大化されます。
• 保証されたSN比がもたらすサブppbの検出限界
• CNOオプションを利用した場合、分析スループットを損なうことなくCNOに対するサブppmの検出限界レベルを実現
• 多原子干渉はスタティック型GDソースと比較して10分の1に低減

高い質量分解能がもたらす分析結果の信頼性
高分解能MSによる分析はシンプルであり、メソッド開発の明確さや確実さを損なわずに、先進的なパフォーマンスを実現します。

• 干渉を排した測定がもたらす明白な分析結果
• 一度の分析内で元素ごとに分解能設定が可能
• 固定スリット設計により、最大限の安定性と再現性を保証
• 分析物ピークに隣接する高マトリックスシグナルの寄与をフィルターレンズにより最小化

ナノメートルレベルの分解能による深さ方向分析
深さ方向分析は、コーティング層の元素分析や層全体での元素の拡散を評価するための重要なツールです。

• 深さ分解能はナノメートルから数百マイクロメートル
• すべての元素の濃度をサブppmから100%の範囲でキャリブレーションなしで測定
• 先進的な深さ方向分析に適した柔軟なアノード直径
• スパッタ速度はバルク分析または深さ方向分析用に調整可能

推奨されるアプリケーション：

• 航空宇宙：ニッケル超合金、複合材料、コーティングおよび拡散層の深さ方向分析
• マイクロエレクトロニクス：銅、アルミナ粉末、スパッタターゲット
• 再生可能エネルギー：シリコンブロック、ウェハー、太陽電池
• 医療／製薬／食品：ステンレス鋼、合金